產(chǎn)品簡(jiǎn)介
PHEMOS-1000是一款高分辨率的微光顯微鏡，通過(guò)偵測(cè)半導(dǎo)體缺陷引起的微弱的光發(fā)射和熱發(fā)射來(lái)準(zhǔn)確定位半導(dǎo)體器件的失效位置。
設(shè)備既可以與通用型探針臺(tái)組合使用，也可搭載濱松Tilt Stage配合Nano Lens進(jìn)行動(dòng)態(tài)失效分析。PHEMOS-1000支持從Probe Card到12英寸大尺寸晶圓的多種任務(wù)和應(yīng)用范圍需求。
產(chǎn)品特性
激光掃描系統(tǒng)
高靈敏度近紅外相機(jī)進(jìn)行光發(fā)射分析（根據(jù)客戶樣品特點(diǎn)對(duì)不同波長(zhǎng)范圍的光發(fā)射探測(cè)可以選配不同型號(hào)相機(jī)，InGaAs, C-CCD, Si-CCD, Emmi-X）
高靈敏度中紅外Thermal相機(jī)進(jìn)行熱分析
激光誘導(dǎo)阻值變化分析（OBIRCH）
Nano Lens 進(jìn)行高分辨率、高靈敏度分析
連接測(cè)試機(jī)進(jìn)行動(dòng)態(tài)分析
產(chǎn)品應(yīng)用
半導(dǎo)體失效分析
規(guī)格參數(shù)
供電電壓 | AC200 V (50 Hz/60 Hz) |
功耗 | Approx. 1400 VA (Max. 3300 VA) |
真空需求 | Approx. 80 kPa or more |
壓縮空氣需求 | 0.5 MPa to 0.7 MPa |
尺寸/重量 | Main unit: 1340 mm (W)×1200 mm (D)×2110 mm (H), Approx. 1500 kg Control rack: 880 mm (W)×820 mm (D)×1542 mm (H), Approx. 150 kg Operation desk: 1000 mm (W)×800 mm (D)×700 mm (H), Approx. 45 kg |
